Carl Zeiss

없음

이 장비는 나노미터(nm) 단위의 극미세 표면 구조를 고배율로 확대하여 관찰하는 기능을 수행합니다. 핵심은 초저전압(Ultra-Low Voltage) 가속 기술로, 1kV 이하의 낮은 에너지로 전자빔을 조사하여 시료의 열 손상을 막고 부도체 시료에서 발생하는 차징(Charging, 표면 대전) 현상을 억제하는 것입니다. 이를 통해 전기가 통하지 않는 고분자, 세라믹, 바이오 시료를 전도성 금속 코팅(전처리) 없이 원본 상태 그대로 선명하게 관찰할 수 있으며, EDS(에너지 분산형 분광기)와 연동하여 미세 영역의 구성 원소를 정성·정량 분석합니다.

고휘도 Schottky 전계방사 전자총(Field Emission Gun)을 탑재하여 기존 열전자 방출형보다 월등히 높은 분해능과 안정된 빔 전류를 제공합니다. 특화된 빔 감속(Beam Deceleration) 기술과 In-lens 검출기를 통해 1kV 이하의 극저전압 조건에서도 1.0nm 이하의 초고분해능 이미지를 구현하는 탁월한 성능을 갖추고 있습니다. 시료 표면의 미세한 굴곡(Topography)과 조성 차이(Composition)를 극명하게 구분해 낼 수 있으며, 대면적 챔버와 5축 스테이지를 통해 다양한 크기의 시료를 정밀하게 제어하며 분석할 수 있는 최첨단 나노 계측 장비입니다