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장비정보

제작사
Oxford Instruments
모델 명
Jupiter XR

내용연수
9년
구분
주장비

용도
분석
표준 분류
광학/전자영상장비 > 현미경 > 달리 분류되지 않는 현미경

장비활용범위
공동활용서비스
취득일
2024-10-11

취득금액
803,248,200원
인증정보
없음
기능
○ 피코미터, 나노미터 크기의 재료표면의 이미지, 거칠기 분석
○ 반도체, 고분자, 나노필름, 2차원재료, 그래핀, 신물질, 나노소재 바이오 소재, 태양전지, 에너지소재, 전자재료, 기계소재 등 다양한 분야의 시료표면 분석
○ 초도분해능 탐침을 이용한 재료 표면 스캔 및 3차원 이미지 생성
장비 상세설명
○ 150피코미터(pm) 이하의 XY 센서 이미지 노이즈 수준이 가능한 분석기
○ 35피코미터(pm)이하의 Z 센서 이미지 노이즈 수준이 가능한 분석기
○ 640nm에서의 광열여기방식(photo thermal excitation)의 캔틸레버 amplitude 설정이 가능한 분석기
○ nA와 mA의 두가지 전류를 동시에 측정할 수 있는 conductive AFM 분석이 가능한 분석기
○ AC와 DC height 노이즈 수준이 각각 25피코미터 이하를 지원하는 분석기
○ 10 um 스캔사이즈 기준 20Hz이상의 스캔 스피드를 지원하는 분석기
○ 10pm 이하의 DC 검출기 노이즈와 30펨토(100kHz 기준) 이하의 AC 검출기 노이즈 수준을 지원하는 분석기

이용안내

사용형태
기관의뢰

설치형태
고정형
사용료 형태
시간별

장비 사용료
[Hr] 40,000원

장비설명

반도체를 포함한 소재 및 재료의 거칠기 분석이 가능하며 얇은 2차원 소재의 두께 측정도 가능함.
특히 웨이퍼 표면의 거칠기를 정량적으로 측정하고 불규칙한 패턴이나 결함을 찾을 수 있음.
300미리미터 크기의 웨이퍼 측정이 가능하며 반도체 소자뿐 아니라 고분자, 나노필름, 2차원재료, 나노소재, 바이오소재, 에너지 소재 등 다양한 분야의 시료 표면 분석에 활용됨.

장비 구성 및 성능

장비의 구성(Configurations of Goods)
1. Complete Atomic Force Microscope system
2. ARC2 controller and data acquisition system
3. Active vibration isolation system
4. Horizontal acoustic enclosure isolation system
5. Open source image processing software
6. Data systems(PC & Monitor)
성능
Closed-loop XY scanner with a range of at least 100 µm
X-Y sensor noise <150pm
Z range 12 um
Z sensor noise <35pm
optical detection light source : super luminescent diode. spot size 10 um
field of view 930x1240um
sample chuck 300mm in diameter, 35mm tall
imaging performance, height noise <25pm

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