첨단산업본부 디스플레이센터

리소텍

기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 식각장비

없음

ㅇ산용 웨이퍼 식각기#1 <br/> - 시료: 웨이퍼 8인치 25매(200*200mm) <br/> - 본체: 압착판 PVC 8t 외장작업 <br/> - 에어건 1세트 <br/> - N2건 1세트 <br/> - LED 램프 30W <br/> - 배기 라인 & 댐퍼 적용 <br/> - 리크 센서 적용 <br/> - 약품 공정용 베스: <br/> 재질: 테프론 15t, 3세트 <br/> 약품 상온 공정 적용 <br/> - QDR 세정용 베스: LDPP, 3세트 <br/> N2 버블구성 <br/> DI 스프레이 노즐 구성 <br/> DI 오버 플로우 공급 구성 <br/> 퀵 드레인 구성 <br/> 세정조 사이클 동작 구성 <br/> 자동 테프론 밸브 구동 <br/> LDPP 확산판 장착 <br/> - 세정용 싱크 구성 <br/> 구스넥 구성 <br/> 초순수 공급 구성 <br/> PVC 수동 밸브구성 <br/> <br/>ㅇ세정용 웨이퍼 식각기#2 <br/> - 웨이퍼/ 기판 크기 : 200*200mm <br/> - 웨이퍼 8인치 25매 <br/> - 본체: IV-PVC 외장 작업 <br/> - 에어건 1세트 <br/> - N2건 1세트 <br/> - LED 램프 30W <br/> - 배기 라인 & 댐퍼 적용 <br/> - 리크 센서 적용 <br/> - 세정용 싱크 구성 <br/> 구스넥 구성 <br/> 초순수 공급 구성 <br/> PVC 수동 밸브구성

QD-OLED 제조 공정의 중요한 측면 중 하나는 웻 스테이션(Wet station)을 활용하는 것이다. 웻 스테이션의 장비 구매는 두가지 필요성이 있는데, 첫째는, 클린룸의 환경 유지와 안전 관리 측면이고, 둘째는, QD-OLED 디스플레이 공정의 일관되고 안정적인 실험 결과를 보장하기 위함이다. 때문에, 위 두 목적에 따라 웻 스테이션은 두가지 종류가 있고 이 두 웻 스테이션이 기본적으로 클린룸에 투자될 필요성을 갖춘 필수 인프라이다. 웻 스테이션 1은 습식 세정의 독립된 공간을 의미하고 이에 관련한 세정액, DI water supply, 폐수 탱크를 갖추고 있다. 이러한 세정 목적의 웻 스테이션으로 습식 공정을 독립적으로 수행함으로써 클린룸의 환경 유지, 반도체 세정의 정밀한 제어, 그리고 기판의 완전한 세정을 통한 QD-OLED의 안정적 수율 보장과 연관되어 있다. 다음으로 웻 스테이션 2는 공정에 필요한 화학적 처리를 수행할 독립적 공간과 화학 처리에 따른 독성 흄 (fume)의 처리 (배기)를 담당함으로써 클린룸 작업자의 통합 안전 관리, 화학 폐기물 관리 시스템 역할, 민감한 화학 물질 취급을 위한 항온·항습 공간 확보, 그리고 QD-OLED 공정에 관련한 화학적 처리의 맞춤형 환경 조성에 따른 불량 최소화 및 수율 유지 (외부 변수 제거)의 역할을 함