코팅솔루션센터

1. Ion sources : 1set
1) electrostatic lens 시스템과 결합된 Filament 기반 ion source
2) Variable voltage (50eV ~ 2kV), 조절 가능
3) 최대 Beam 전류 밀도 : 1mA/cm²2
4) 최소 Beam 직경 2microns
5) 1picoamp to2,000 picoamps 범위의 ion beam 전류 모니터링용
6) 교체형 apertures

2. 시편 stage
1) Load lock을 통해 10초 이내 시편 교체 가능
2) 시편 교체용 transfer rod
3) Milling 각도 범위 : -10° ~ +10°

3. 진공 System
1) 오일 프리 diaphragm pump로 백업된 Turbo molecular drag pump
2) 대기압 1×10⁻⁸ mbar 범위의 cold cathode 및 pirani gauge 조합에 의한 챔버 진공 측정
3) 시스템 기본 진공도 : 3×10⁻⁷ mbar
4) operation 진공도 : 1×10⁻⁴ mbar

4. 공정 Gas
1) 질량 유량 제어 기술을 이용한 자동 제어
2) Argon : 99.999%
3) ion source당 약 0.2 sccm Flow rate/ 공급 압력 15psi 필요

5. 사용자 Interface
1) 메뉴 기반 인터페이스
2) 시스템 상태 표시가 포함된 프로그래밍 가능한 milling 사이클

6. Sample 조명
1) 시편 교체를 용이하게 하는 사용자 제어 챔버 조명

7. 자동 종료
1) 시간 또는 온도에 의한 공정 종료

8. 시편 cooling
1) 자동 온도 interlock이 포함된 액체질소 전도 냉각
2) 스테이지 온도 : -175°C
3) 시스템 냉각 시간 : 20분 이내