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광학/전자영상장비 > 현미경 > 주사탐침현미경 (주장비: EPN0200756)

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1. AFM 기반 동적 기계 분석(DMA) 패키지로, 0.1 Hz~20 kHz의 샘플 변조 주파수 범위에서 정량적 나노스케일 기계적 특성 분석이 가능한 장비이다. 2. 저장 탄성률(E′), 손실 탄성률(E″) 및 손실계수(tan-delta) 측정을 통한 완전한 유변학적 분석을 제공하며, 100 nm 이하의 공간 분해능으로 1 MPa~5 GPa 탄성률 범위 소재의 최적 분석이 가능한 장비이다. 3. 단일 포인트, 포인트 어레이 또는 매핑을 위한 분광 기능을 제공하며, 유변 주파수 범위는 가변온도 조건(상온~250℃)에서 0.1 Hz~300 Hz, 상온에서 0.1 Hz~20 kHz인 장비이다. 4. 점탄성 소재의 유변학적 거동을 특성화하기 위해 마스터 곡선 생성, 시간-온도 중첩(TTS) 데이터 생성 및 아레니우스(Arrhenius) 모델을 통한 활성화 에너지 계산 기능을 제공하는 장비이다. 5. AFM 스테이지 업그레이드 장치를 현재 운용 중인 주사탐침현미경에 호환 가능한 형태로 장착하여 나노소재의 물성 변화를 분석하는 장비이다.

본 장비는 기존 원자힘현미경(AFM)에 장착하여 소재의 나노스케일 기계적 특성을 정량적으로 분석하는 동적 기계 분석 장치이다. 시료에 주기적인 기계적 변조를 가하고 이에 따른 응답을 측정하여 저장 탄성률(E′), 손실 탄성률(E″) 및 손실계수(tan δ)를 분석한다. 이를 통해 소재의 탄성 및 점탄성 거동과 온도·주파수 변화에 따른 물성 변화를 평가할 수 있다. 가변온도 조건에서는 0.1 Hz~300 Hz, 상온에서는 0.1 Hz~20 kHz의 주파수 범위에서 측정할 수 있다. 시료 가열 온도 범위는 상온~250℃이며, 공기 또는 불활성 가스 환경에서 측정할 수 있다. 탄성률 측정 범위는 1 MPa~5 GPa이고, 공간 분해능은 100 nm 이하이다. 단일 지점, 지점 배열 및 매핑 방식의 측정을 지원하여 국부적인 기계적 특성과 위치별 물성 분포를 분석할 수 있다. 온도 및 주파수에 따른 측정 데이터를 활용하여 마스터 곡선과 시간-온도 중첩(TTS) 데이터를 생성하고, 아레니우스 모델을 통해 활성화 에너지를 계산할 수 있다. 또한 측정 결과를 벌크 동적 기계 분석 및 나노압입 시험 결과와 비교하여 소재의 기계적 특성을 평가할 수 있다. 장비는 AFM-nDMA 액세서리 본체(ICON-NDMA), 고안정성 시료 히터, 2.5 mm 시료 기판을 지원하는 시료 구동기, 저주파 및 고주파용 마운트와 전기 케이블 세트, 온도 제어기(Model 331S), 냉각 장치, 광학 QR 판독기, 히터용 캔틸레버 홀더 및 표준 Icon 캔틸레버 홀더로 구성된다. 광학 QR 판독기는 교정된 탐침의 매개변수를 불러오는 데 사용하며, 장비 운용을 위해 NanoScope V9.70 이상의 소프트웨어 연동이 필요하다.