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기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 달리 분류되지 않는 반도체장비

없음

박막 제조 시 검출할 가스이온 전류 측정을 위한 장비로 주요 구성 및사양은 다음과 같다. ●구성 1. 장비 본체 : Transpector APX Residual Gas Analyer 2. 장비 운반전용 대차 3. 장비 전용 노트북 4. 전용 프로그램 : FabGuard Explorer ● 주요사양 : 1. Total pressure range:5E-7– 1E-3 Torr 2. System operating pressure: 1E-8 Torr – 1.2 atm 3. Detection limit : <25 ppb1 4. Sensitivity at low emission: >2.0E-6 amps/Torr 5. Sensitivity at high emission: >1.0E-5 amps/Torr

박막 제조시 검출할 가스이온의 이온전류를 측정하여, 정납신호로 변환 및 환산하여 발생되는 가스의 종류 및 양을 검출할 수 있는 장비입니다. 박막 공정중 발생되는 불필요한 가스를 검출 하거나, 수개의 박막 공정 스텝이 시작과 끝에서 발생되는 다른 가스를 검출하여 실제 공정 시간을 측정 할 수 있는 장비로 미세한 박막을 제조하는데 필수 장비입니다.