보유장비현황
- 보유장비현황
- 금속식각장비
- Metal etching system
- i-Tube No. 2109-C-0433
- NTIS No NFEC-2022-05-279142
- 설치기관 나노종합기술원
- 주소 대전 유성구 대학로 291 (구성동)
- 담당자 이문근 (T.042-366-1632)
- 매뉴얼
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예약가능여부(장비 예약은 Zeus 시스템에서 회원가입후 예약가능)
장비정보
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제작사
기가레인
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모델 명
NeoGENll-MAXIS200L
내용연수10년
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구분
주장비
용도생산
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표준 분류
기계가공/시험장비 > 반도체장비 > 식각장비
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취득일
2021.09.17.
취득금액₩1,368,000,000
- 인증정보
- 기능
- 장비 상세설명
장비 사용법
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사용형태
기관의뢰
설치형태고정형
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사용료 형태
기타
장비 사용료₩250,000
장비설명
본 금속식각장비는 고밀도 ICP플라즈마를 이용하여 웨이퍼 표면 위에 증착된 금속 박막 및 산화막을 포토레지스트 패턴에 따라 선택적으로 식각할 수 있는 장비이다. 3개의 챔버로 구성되어 있고, 각각의 챔버는 금속 식각, 산화막 식각, 잔류 포토레지스트 제거를 위해 사용된다.
장비 구성 및 성능
- Chamber 1 (Oxide) gases: SF6, CF4, CHF3, Ar, O2, He, N2
- Chamber 2 (Metal) gases: BCl3, Cl2, CF4, Ar, O2, N2
- Ceramic ESC with back side He cooling
- EPD
- Temperature control: -20~150 ℃