기업협력본부

본 장비는 UV광원을 이용하여 마스크의 패턴을 PR(감광제)이 도포되어 있는
웨이퍼에 전사시켜 패턴을 생성시켜주는 장비로서 다음과 같은 항목이 가능
해야 한다.
1) 파워서플라이는 디지털로 구성되어 calibration이 가능해야 함.
2) 얼라인 정렬 확인을 위해 마스크와 웨이퍼 컨택 확인 모드 및 사용자
편의를 위해 컨택 포인트에 대한 스캔기능이 구비되야 함.
3) 얼라인 정렬을 위한 대물렌즈가 좌/우 별도 존재해야 함
4) Microscope의 x,y 축 이동이 모터로 구동되어야 함.
5) 마스크와 웨이퍼가 컨택시 웨이퍼 표면이 불균일 하여 균일한 간격 유지를 위한 보정기능이 별도 구비 되어야 함
(WEC head)
6) WEC head는 모터를 통한 정밀 제어가 가능해야 함.